應用于Mini/Micro LED, OLED, Power Device, VCSEL, Wafer Optics
應用于Mini/Micro LED, OLED, Power Device, VCSEL, Wafer Optics
12寸（兼容小尺寸）晶圓工藝腔體
高深寬比基片上實現優質的薄膜覆蓋率
ICP離子源、Loadlock等模塊化配置
可沉積薄膜：氧化物、氮化物、氟化物、金屬單質、摻雜膜、疊層膜等，適用于高校研究所及企業研發部門的多種開發需求
| 沉積薄膜 | 氧化物、氮化物、氟化物等 | 晶圓尺寸 | 300mm | 最大裝片量 | 1 |
70℃ – 300℃
12寸（兼容小尺寸）晶圓工藝腔體
高深寬比基片上實現優質的薄膜覆蓋率
ICP離子源、Loadlock等模塊化配置
可沉積薄膜：氧化物、氮化物、氟化物、金屬單質、摻雜膜、疊層膜等，適用于高校研究所及企業研發部門的多種開發需求
高潔凈度的傳片和無particle的鍍膜方案，可保證鍍膜過程中的基板表面潔凈度
可loadlock自動裝卸基片
滬公網安備31011302007876