A1000PC是面向于工業化大規模生產的原子層沉積系統，低溫鍍膜設計可以在各種3維基板上沉積高質量光學薄膜。
A1000PC是面向于工業化大規模生產的原子層沉積系統，低溫鍍膜設計可以在各種3維基板上沉積高質量光學薄膜。
在塑料基板上優異的薄膜保形性和附著性
經國際認證機構認可的ALD系統設計
正常運行時間和產能
可兼容基板自動化裝載
適用于工業4.0的先進控制系統
| 尺寸 | 寬3220 長4300 高2800mm(亦可定制化) | 沉積薄膜 | Al2O3，SiO2，TiO2 | 等離子體 | ICP |
| 前驅體源 | 4液態 2氣體 | 基板 | 平面或三維 | 裝載量 | Φ335mm*40pcs |
| 工藝溫度 | <130℃ | 薄膜均勻性 | Al2O3,SiO2 <±2%, TiO2<±3% | 裝載方式 | 半自動 |
在塑料基板上優異的薄膜保形性和附著性
經工業化檢驗認證的ALD系統設計
正常運行時間和產能
可兼容基板自動化裝載
適用于工業4.0的先進控制系統
真正的批量式低溫氧化硅沉積工藝
良好的批量式二氧化鈦均勻性
可對塑料鏡頭進行等離子前處理
高裝載量的批量式原子層沉積系統
業內常用的量產式設備
已驗證的高重復可靠性
滬公網安備31011302007876