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A800LS

A800LS的小型化布局設計使得維護等操作在灰區進行,節省了潔凈間占地面積。相應的維護操作更簡便,消耗品使用更少,滿足工業化所需的高重復性和高可靠性鍍膜。

概述

A800LS的小型化布局設計使得維護等操作在灰區進行,節省了潔凈間占地面積。相應的維護操作更簡便,消耗品使用更少,滿足工業化所需的高重復性和高可靠性鍍膜。

為LED產業而生的工業化設計,并兼容多種尺寸晶圓

與工業4.0配套的先進PLC控制系統

高準確性工藝控制

更短的ALD循環時間以及更少的前驅體源消耗量

更高的產量,更低的生產消耗

更優的薄膜均勻性和重復性

特點及優勢

基片

4/6寸標準晶圓可裝載多達150/50片

工藝溫度

70℃ – 300℃

沉積薄膜

Al2O3薄膜:鋁源、水源位置標準配置,可選配臭氧等前驅體源

ALD 性能

超大裝片量,鍍膜時間短

優于1.0%的薄膜均勻性(1σ, 5mmEE).

極具競爭力的設備性能和薄膜均勻性.

保形覆蓋率 >94%

連續無針孔的氧化鋁阻隔薄膜,優越的水汽阻隔能夠極大提升Mini-LED壽命;而且薄膜有著高擊穿電壓性能.

埃米級的高精度薄膜厚度可控性,高生產可靠性.

裝片方式

手動裝片

半自動裝片

全自動裝片

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