光馳A800TBS原子層沉積系統是專業應用于晶圓級光學領域的工業化批量式ALD，例如：光柵間隙填充，三維表面修飾，器件封裝和沉積增透減反膜。
光馳A800TBS原子層沉積系統是專業應用于晶圓級光學領域的工業化批量式ALD，例如：光柵間隙填充，三維表面修飾，器件封裝和沉積增透減反膜。
光馳A800TBS擁有極佳的薄膜均勻性和很短的單次循環時間，產量高，顆粒數低，電學和光學性能優越，從而重新定義了大規模量產ALD系統。
經過特殊設計和專門調試的A800TBS，能夠滿足目前市場客戶所需求的低溫沉積工藝。
光馳A800TBS采用在潔凈間進行生產，維護操作在灰區進行，節省了設備占地面積。這種設計使得設備維護更簡便，耗材更少，并且有著優越的的鍍膜重復性與可靠性。
8英寸標準晶圓裝片量高達25片
70 – 300℃
大批量工藝，極短的沉積循環時間
200℃沉積溫度， Al2O3薄膜不均勻性低于1%（1sigma）
極具競爭力的薄膜均勻性和其他性能沉積薄膜：Al2O3, SiO2, TiO2
前驅體位置：標配鋁源，鈦源，水源
其他前驅體源如臭氧，氨氣，硅源可選配
手動裝片
半自動裝片
全自動裝片
滬公網安備31011302007876