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A800DAC

A800DAC是滿足先進制程、擁有完整Cluster系統的原子層沉積鍍膜設備。可制備滿足功率器件、Micro-OLED、先進封裝等半導體或泛半導體市場要求的高絕緣、優阻隔、低雜質的鈍化和/或封裝等多種先進薄膜應用。

概述

A800DAC是滿足先進制程、擁有完整Cluster系統的原子層沉積鍍膜設備。可制備滿足功率器件、Micro-OLED、先進封裝等半導體或泛半導體市場要求的高絕緣、優阻隔、低雜質的鈍化和/或封裝等多種先進薄膜應用。

在復雜結構的優異附著力和保形性

具備優質抗擊穿性能

具備優質防水氣侵蝕性能

全自動化基板裝載

適用于工業4.0的先進控制系統

經國際認證機構認可的ALD系統設計

特點及優勢

產品特點

在復雜結構的優異附著力和保形性

具備優質抗擊穿性能

具備優質防水氣侵蝕性能

全自動化基板裝載

適用于工業4.0的先進控制系統

經國際認證機構認可的ALD系統設計

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