ALD鍍膜的保形性，可均勻覆蓋3D藍(lán)寶石等襯底，頂部、側(cè)壁、底部的鍍膜厚度一致，可達(dá)到90%以上的鍍膜臺(tái)階覆蓋率。
左圖：ALD鍍膜的保形性，可均勻覆蓋3D藍(lán)寶石等襯底，頂部、側(cè)壁、底部的鍍膜厚度一致，可達(dá)到90%以上的鍍膜臺(tái)階覆蓋率。
右圖：不同厚度，ALD工藝的Al2O3的絕緣性能對比，厚度越厚絕緣性能越好；O3+TMA工藝比H2O+TMA工藝的絕緣性能好一些。200℃、120nm的Al2O3薄膜擊穿電壓達(dá)到10MV/cm(測量上限）。
Excellent conformality: cross-sectional SEM image of 110nm Al2O3 ALD film coating on a 3D sapphire.
左圖：ALD鍍膜的保形性，可均勻覆蓋3D藍(lán)寶石等襯底，頂部、側(cè)壁、底部的鍍膜厚度一致，可達(dá)到90%以上的鍍膜臺(tái)階覆蓋率。
右圖：不同厚度，ALD工藝的Al2O3的絕緣性能對比，厚度越厚絕緣性能越好；O3+TMA工藝比H2O+TMA工藝的絕緣性能好一些。200℃、120nm的Al2O3薄膜擊穿電壓達(dá)到10MV/cm(測量上限）。
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